Article
  • Preparation and Properties of Water-Soluble Photosensitive Polymer with Azido Group
  • Yoon KB, Lee JT, Han JY, Lee DH
  • Azido기를 함유한 수용성 포토레지스트 제조 및 감광 특성
  • 윤근병, 이준태, 한정엽, 이동호
Abstract
Water-soluble terpolymer of acrylamide, diacetone acrylamide, and acrylic acid was prepared by redox initiators in aqueous medium. One component photoresist was synthesized by reaction of terpolymer with 4-azidoaniline. By blending the aqueous acrylamide/diacetone acrylamide copolymer solution with bisazide, 4,4′-diazidostilbene-2,2′-disulfuric acid sodium salt, two component photoresist was prepared. The photosensitivity per azido group unit mole of one component photoresist was 4 times higher than that of two component photoresist. The dot-type pattern was successfully achieved with one component photoresist at low exposure energy, which is prospective to be used as black matrix negative photoresist.

Acrylamide(AM), diacetone acrylamide(DAAM) 및 acrylic acid(AAc)를 사용하여 수용성 삼원공중합체를 제조하고, 4-azidoaniline을 반응하여 azido기를 고분자 곁사슬에 도입한 일성분계 포토레지스트를 제조하였다. AM을 주성분으로 하고 DAAM을 공단량체로 사용한 공중합체를 합성하고, 광가교제로 4,4'-diazidostilbene-2,2'-disulfuric acid sodium salt(DAS)를 혼합한 이성분계 포토레지스트를 제조하여 두 종류 포토레지스트의 감광특성을 비교하였다. 포토레지스트의 azido기 1 mol에 대한 감광특성은 고분자 곁사슬에 azido기를 가진 일성분계의 경우가 bis-azido기를 가진 이성분계보다 약 4배 정도 우수한 감광성을 나타내었다. 직경 110 μm 크기의 원형패턴을 낮은 광세기에서 일성분계 포토레지스트를 사용하여 얻었으며, 노광부와 비노광부 계면에 잔존물이 없이 원형 패턴이 형성되어 블랙 매트릭스용 negative 포토레지스트로 활용이 기대된다.

Keywords: negative photoresist; azido group; photosensitivity; black matrix

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    Abbr. Polym. Korea
  • 2023 Impact Factor : 0.4
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This Article

  • 2007; 31(5): 374-378

    Published online Sep 25, 2007

  • Received on Jan 19, 2007
  • Accepted on Jul 25, 2007