The chemical structure, surface free energy, and deposition rate of hexamethyldisiloxane (HMDSIO) were investigated in terms of the discharge power(W), mass flow rate(Fm) and substrate temperature(T_s). It was observed that both the substrate temperature and the input engery (W/Fm) level of grow discharge significantly controlled the chemical structure and surface energy of plasma polymer. It was found that the deposition rates of HMDSIO could be properly described as a function of W/Fm and T_s as follows. DRm(W, Fm, T_s)=C x Fm x exp(-Ea/(W/Fm)) x exp(-bT_s)

헥사메틸디실록산의 플라즈마중합시 방전출력(W), 단량체 공급속도(Fm) 및 기질 (substrate)의 온도(T_s)가 중합체의 화학구조, 표면자유에너지, 그리고 증착속도(DRm)에 미치는 영향을 연구하였다. 복합에너지 변수(W/Fm)와 기질의 온도에 따라 중합체의 이들 물성은 체계적으로 변화하였는데, 이러한 특성은 '활성화 성장기구'에 의해 설명될 수 있었다. 특히 복합에너지변수와 기질의 온도가 헥틸메칠디실록산의 증착속도에 미치는 영향을 조사하여 다음의 관계식을 얻을 수 있었다. DRm(W, Fm, T_s)=C x Fm x exp(-Ea/(W/Fm)) x exp(-bT_s)

Keywords: