Thin electric insulation layers were coated on aluminum plates and aluminum condenser cases by plasma polymerization of HMDSO+O2. Electric resistances of the films were higher than 1.0 MΩ if they are thicker than 0.5 μm independently of the type of films but their surface morphologies and adhesion strengths were dependent on the process conditions. Deposition rate and adhesion strength of the films were dependent on O2/HMDSO flow ratio and discharge power. The best result was obtained at O2 /HMDSO flow ratio of 4 and discharge power of 60 W. Adhesion strength could also be highly improved if aluminum was pre-treated in boiling water for 30 min through the formation of Al-O-Si bonding between the film and the aluminum surface. The coated films showed excellent chemical and thermal resistances.

Hexamethyldisiloxane(HMDSO)+O2를 플라즈마 중합시켜 알루미늄 판과 알루미늄 콘덴서 케이스 표면에 전기 절연박막을 코팅하였다. 코팅된 박막들은 두께가 0.5 μm 이상이면 박막의 종류에 상관없이 1.0 MΩ 이상의 저항 값을 보였으며, 박막의 표면 형태 및 접착력은 플라즈마의 공정조건에 따라 달라졌다. 박막의 증착속도 및 접착력은 O2 /HMDSO 유량비와 방전전력에 따라 달라졌으며, 유량비가 4이고 방전전력이 60 W일 때 가장 좋은결과를 보였다. 접착력은 또한 알루미늄을 끓는 물에서 30분간 전처리한 경우에 박막과 알루미늄 표면 사이에 Al-O-Si 결합을 형성하면서 크게 향상되었다. 이렇게 코팅된 박막은 우수한 내약품성과 내열성을 지니고 있었다.

Keywords: electric insulation layer; plasma polymerization; durability; adhesion strength; chemical and thermal resistance.