In order to prepare thin films which have oxygen-containing functional groups, plasma polymerization of ethyl, n-propyl, and n-butyl alcohol was carried out at RF discharge power of 25 W and pressures of 100, 140, and 200 mTorr in spite of a poisoning effect due to oxygen atom in a1coho1. It was observed that the thin films had various kinds of oxygen-containing groups such as -C-O-.-C=O, and -O-C=O from the analysis of IR and ESCA spectra. The amounts of oxygen atom, which were in the range of 10-15%, were not sensitively affected by experimental conditions The deposition rate. however. depended not only on energy condition but alto on O/C ratio of the monomer.

수산기, 에스테르, 카보닐, 에테르 등의 기능기를 갖는 플라즈마중합 박막을 얻기 위해서 산 소에 의한 poison효과 때문에 플라즈마 중합이 어려운 에틸, 프로필 및 부틸알코올을 RF방전출력 25W, 방전압력 100, 140, 200mTorr의 조건에서 플라즈마 중합하고 이들 세가지 알코올-플라즈마 중합 박막의 구조와 구성성분을 IR 및 ESCA 스펙트럼을 분석하여 조사하였다. 생성된 박막은 -C-O-, -C=O, 및 -O-C=O 등과 같은 산소화합물을 포함하는 탄화수소로 구성되어 있었으며, 박막 내에 포함된 산소는 10-15% 정토였고. 반응조건에 따른 산소의 함량은 큰 차이가 없었으나 박막의 석출속도는 에너지 상태뿐만 아니라 단량체의 산소/탄소 함량비율에도 의존하였다.

Keywords: alcohol plasma polymerization; thin film; O/C ratio; deposition rate