The objective of this work was to obtain the only coherent X-ray diffraction intensities from the amorphous SiO
2, a 3-dimentional random network inorganic polymer. To correct incoherent scattering from the measured diffraction intensity, incoherent scattering intensity was subtracted theoretically when using CuK
α radiation and it was eliminated experimentally with a Zr-Y balance-filter when using MoK
α radiation. To correct multiple scattering computer programs were developed to estimate multiple scattering intensity obtained in the amorphous SiO
2 with various X-rays. The intensity ratios of multiple scattering to single scattering in the amorphous SiO
2 were 0.10∼0.16% for CuK
α, 0.98∼5.87% for MoK
α, and 1.88∼17.86% for AgK
α radiation.
3차원 랜덤 망상구조의 무기고분자인 무정형 SiO
2 시편에서 측정된 X선 회절강도로부터 정합산란강도만을 얻고자 하였다. 측정된 회절강도로부터 비정합산란을 수정하기 위하여 CuK
α 빔을 사용할 때는 비정합산란강도를 이론적으로 계산하여 제하였고, MoK
α 빔을 사용할 때는 Zr-Y 평형 필터에 의해 실험적으로 제거하였다. 측정된 회절강도로부터 다중산란을 수정하기 위하여 여러 종류의 X선 빔에 따라 무정형 SiO
2에서 발생하는 다중산란강도를 산출해주는 컴퓨터 프로그램을 작성하였다. 무정형 SiO
2의 단일산란 빔에 대한 다중산란 빔의 강도 비는 CuK
α 빔에서 0.10∼0.16%, MoK
α 빔에서 0.98∼5.87%와 AgK
α 빔에서 1.88∼17.86%이었다.
Keywords: correction; scattering; multiple; amorphous; silica