In order to enhance the chlorine resistance and the water flux of the polyamide composite membrane, fabricated from the interfacial reaction of MPDA (m-phenylenediamine) and TMC(trimesoyl chloride), some of MPDA was replaced by HEMA (hydroxyethyl methacrylate) or PVA(polyvinyl alcohol, MW=22000). Polysulfone membranes were prepared as a support having ideal structure, and nonporous active layer was formed on the surface of the support by the interfacial reaction. Introduction of HEMA or PVA enhanced the a ater flux as well as the chlorine resistance because of the eater bond between HEMA and TMC or PVA and TMC. Photocrosslinking of HEMA and crosslinking of PVA with formaldehyde resulted in the network structures which secured the performance stability of the composite membrane.

MPDA (m-phenylenediamine)와 TMC (trimesoy1 chloride)를 가교한 기존의 상업용 폴리아미드 역삼투 복합막의 염소 저항성을 보완하고 친수성을 증가시키기 위하여 MPDA 중 일부를 HEMA (hydroxyethyl methacrylate)나 PVA (polyvinyl alcohol, MW=22000)로 치환한 후 TMC로 계면중합하여 복합막을 제조하였다. 복합막의 지지막으로서 이상적인 구조를 가진 폴리술폰 지지막을 제조하였고 계면 중합에 의하여 지지막의 표면에 약 3μm 두께의 기공이 전혀 없는 활성층을 형성하였다. HEMA와 PVA의 첨가로 인해 MPDA와 TMC간의 amide bond 외에 HEMA와 TMC, PVA와 TMC간의 ester bond가 생성되었고, 이로 인하여 수투과도가 향상되었다. 또한 염소 공격에 약한 주쇄의 amide bond 일부를 ester bond로 바꾸어줌으로써 염소에 대한 저항성도 향상되었다. HEMA의 이중결합을 광가교시키거나 PVA의 hydroxyl group을 가교시킨 결과 network 구조의 형성으로 복합막의 성능 안정성이 향상되었다.

Keywords: Composite Membrane; Reverse Osmosis; Interfacial Polymerization; Chlorine Resistance; HEMA and PVA